Precursor2 반도체 공통요소기술의 이해_플라즈마 장비 주요부 MFC, Vaporizer 4차시_플라즈마 장비 주요부 MFC, VaporizerMFC 구성 및 특징 MFC는 반도체 공정 장비에서 사용되는 유량제어 기술 중 하나임. 반도체 제조에서는 다양한 Gas가 사용되며, 이러한 Gas를 정확하게 제어하는 것이 반도체 제조 공정의 품질과 안정성을 유지로 이어짐. Recipe반도체 공정에서 Recipe라는 공정 운영 방식을 사용합니다. 이는 각각의 요소 기술들을 조합하여 반도체 칩을 생성합니다. 반도체 공정에서 정량의 Gas를 필요한 시점에 주입하여 엔지니어가 원하는 반도체 칩을 생성할 수 있도록 함. ▶ MFC는 원하는 Gas를 명령하면 자동으로 원하는 유량을 측정하고 제어 ▶ 반도체 공정 설비에서는 수십 개의 MFC를 운영 유량의 단위 어떤 단위를 사용할 것 인가? → Gas는 온도.. 2023. 7. 15. 반도체 공통요소기술의 이해_반도체 플라즈마 장비 및 진공 부품 이해 3차시_반도체 플라즈마 장비 및 진공 부품 이해 진공 / 플라즈마 장비의 중요성 반도체 공정을 진행하기 위해서는 진공과 플라즈마가 반드시 필요한 요소입니다. 이는 내부에 존재하는 기체가 적기도 하지만 오염도가 낮아 불량율을 낮추는데 큰 기인을 합니다. 그리고 공정 시간을 단축시키고 제어가 용이한 플라즈마 형성이 가능하다는 장점을 가지고 있습니다. 각 플라즈마 장비에서 진공에 따라 공정의 특성이 달라질 수 있습니다. 고순도의 공정을 진행할 수 있으며 분석을 진행할 때에도 진공을 이용하여 대기 중의 노출을 방지하거나 외부로부터 표면이 오염되는 것을 방지하는 목적으로 사용합니다. 그렇다면 이렇게 중요한 진공 및 플라즈마 장비는 실제 산업에서 많은 비중을 차지하고 있을까요? 반도체 장비의 비중은 전공정 70%.. 2023. 7. 14. 이전 1 다음
