PECVD1 반도체 공통요소기술의 이해_플라즈마 장비 주요부 MFC, Vaporizer 4차시_플라즈마 장비 주요부 MFC, VaporizerMFC 구성 및 특징 MFC는 반도체 공정 장비에서 사용되는 유량제어 기술 중 하나임. 반도체 제조에서는 다양한 Gas가 사용되며, 이러한 Gas를 정확하게 제어하는 것이 반도체 제조 공정의 품질과 안정성을 유지로 이어짐. Recipe반도체 공정에서 Recipe라는 공정 운영 방식을 사용합니다. 이는 각각의 요소 기술들을 조합하여 반도체 칩을 생성합니다. 반도체 공정에서 정량의 Gas를 필요한 시점에 주입하여 엔지니어가 원하는 반도체 칩을 생성할 수 있도록 함. ▶ MFC는 원하는 Gas를 명령하면 자동으로 원하는 유량을 측정하고 제어 ▶ 반도체 공정 설비에서는 수십 개의 MFC를 운영 유량의 단위 어떤 단위를 사용할 것 인가? → Gas는 온도.. 2023. 7. 15. 이전 1 다음
