플라즈마 장비2 반도체 공통요소기술의 이해_반도체 플라즈마 장비 및 진공 부품 이해 3차시_반도체 플라즈마 장비 및 진공 부품 이해 진공 / 플라즈마 장비의 중요성 반도체 공정을 진행하기 위해서는 진공과 플라즈마가 반드시 필요한 요소입니다. 이는 내부에 존재하는 기체가 적기도 하지만 오염도가 낮아 불량율을 낮추는데 큰 기인을 합니다. 그리고 공정 시간을 단축시키고 제어가 용이한 플라즈마 형성이 가능하다는 장점을 가지고 있습니다. 각 플라즈마 장비에서 진공에 따라 공정의 특성이 달라질 수 있습니다. 고순도의 공정을 진행할 수 있으며 분석을 진행할 때에도 진공을 이용하여 대기 중의 노출을 방지하거나 외부로부터 표면이 오염되는 것을 방지하는 목적으로 사용합니다. 그렇다면 이렇게 중요한 진공 및 플라즈마 장비는 실제 산업에서 많은 비중을 차지하고 있을까요? 반도체 장비의 비중은 전공정 70%.. 2023. 7. 14. 반도체 공통요소기술의 이해_반도체 장비 구성요소 및 공정별 장비 한국반도체 산업협회의 한국 반도체 아카데미에서 진행하는 "반도체 공통요소기술의 이해" 내용 정리1차시_반도체 장비 구성요소 및 공정별 장비▶ 반도체 장비 구성요소반도체 산업에서 반도체 장비란? " 반도체 생산을 위해 준비하는 웨이퍼 제조/가공을 포함해 칩 생산 조립 검사에 활용되는 모든 장비를 통칭함 "반도체 설비운영 방식과 그 중요성 반도체 제조기술은 한 방향으로 진행되는 순차적 공정이 아님. 제품에 필요한 패턴이나 특성을 만들기 위한 그에 맞는 공정 진행되는 제작 방식 .설비의 운영 환경 반도체 장비들은 특별한 환경에서 가동됨.Fabrication Facility (Fab)은 Clean Fab이라 부르며 마이크로 단위의 파티클 오염을 컨트롤 하는 Clean room이라는 특수 공간임. 팹 하부 층에.. 2023. 7. 11. 이전 1 다음
